Van het zagen van halfgeleider- en fotovoltaïsche wafers met behulp van diamantdraad tot het bewerken van structurele onderdelen voor EUV-lithografie en vacuümcomponenten voor plasmakamers tot kwartsverwerking – hoe divers de elektronica-industrie ook is, zo individueel zijn de oplossingen.
Ontdek de bijzondere uitdagingen van EUV-lithografie
Wij helpen u de complexe vereisten van EUV-lithografieklanten te begrijpen. Simpel gezegd zijn lithografiesystemen extra grote overheadprojectoren die blauwdrukken op de wafers projecteren. Dit gebeurt voor elke nieuwe oppervlaktelaag en maakt het mogelijk de overeenkomstige gebieden bloot te leggen in de daaropvolgende etsstap. Op deze manier wordt de microchip laag voor laag opgebouwd. Vanwege de kleine golflengten moet deze stap in een “vacuüm” plaatsvinden.
EUV-lithografiesystemen zijn momenteel de meest geavanceerde en complexe machines in de productie van microchips. De productie van deze machines en hun componenten is net zo complex. De extreem hoge zuiverheidseisen zorgen voor een ongekende extra complexiteit bij de metaalverwerking, wat vereist dat we productieprocessen holistisch bekijken en er voortdurend naar streven deze te optimaliseren.
HIO
Samen met de resterende waterstof en het plasma in de vacuümkamer kunnen de zogenaamde HIO-elementen de optiek van het systeem onomkeerbaar beschadigen.
HIO staat voor ‘waterstof-geïnduceerde uitgassing’. Er zijn 14 HIO-elementen met verschillende risicomogelijkheden.
- Calcium (Ca)
- Chloor (Cl)
- Fluor (F)
- Indium (in)
- Lood (Pb)
- Magnesium (Mg)
- Mangaan (Mn)
- Stikstof (N)
- Fosfor (P)
- Tin (Sn)
- Silicium (Si)
- Natrium (Na)
- Zwavel (S)
- Zink (Zn)
Uitgassen
Uitgassing is een probleem voor alle elektronische componenten, vooral in een vacuüm. Het beschrijft het vrijkomen van gas dat ingesloten is in een vaste stof.
Stel je een colafles voor. Wanneer je hem opent, daalt de omgevingsdruk en komt er gas vrij. Lithografiecomponenten hebben gespecificeerde limieten voor H2O, CxHy v en CxHy nv.
Vlekkeloze oppervlakken
Een bijzondere uitdaging bij de metaalverwerking op EUV-gebied zijn de vereiste smetteloze oppervlakken.
De vaak gebruikte en gevoelige aluminiumlegering Al 5083 vlekt gemakkelijk. Additieven die dit zouden kunnen voorkomen bevatten vaak HIO-elementen en kunnen niet worden gebruikt.
Voldoe aan de hygiënevereisten van uw klanten
Met onze knowhow en specifieke oplossingen helpen wij u uzelf te positioneren als een betrouwbare partner die kan voldoen aan de complexe eisen van EUV-lithografieklanten.
Wij zien onszelf als schakel tussen chemie en mechanica. Wij begrijpen de eisen van zowel OEM als verspaning en reiniging en kunnen daarom oplossingen bieden die we specifiek voor de elektronica-industrie hebben ontwikkeld, waardoor risico’s worden geminimaliseerd en stabiele productieprocessen worden gegarandeerd.
HIO
De beste antischuimmiddelen bevatten siliciumverbindingen, en de meeste additieven die de aluminiumcompatibiliteit verbeteren bevatten fosfor (of Si). Zowel Si als P zijn kritische HIO-elementen.
Onze metaalbewerkingsvloeistoffen voor de elektronica-industrie minimaliseren het risico op oppervlakteverontreiniging, omdat ze vrij zijn van kritische HIO-elementen.
Uitgassen
Zelfs de kleinste olieresten kunnen ervoor zorgen dat een machineonderdeel niet aan de vereiste RGA-specificaties voldoet.
Ons portfolio omvat semi synthetische en volledig synthetische metaalbewerkingsvloeistoffen, die het risico op verontreiniging met vluchtige en niet-vluchtige koolwaterstoffen minimaliseren.
Vlekkeloze oppervlakken
Met water mengbare metaalbewerkingsvloeistoffen hebben vaak een hoge pH om de biostabiliteit te garanderen. Om vlekken te voorkomen bevatten ze corrosieremmers, die vaak gebaseerd zijn op kritische HIO-elementen.
Wij bieden biostabiele metaalbewerkingsvloeistoffen met een neutrale pH, waardoor vlekkeloze oppervlakken worden gegarandeerd, ook op gevoelige legeringen zoals Al 5083.
Wij helpen u uw doelen te bereiken
Profiteer van onze kennis en ervaring in de elektronica-industrie in het algemeen en in EUV-lithografie in het bijzonder. Ons ervaren team van verspaningsexperts en chemici vindt altijd de juiste oplossing voor u.
